前言：半导体晶片的高清洁度清洗方式是什么？目前晶圆清洗技术大致可分为湿式与干式两大类，目前仍以湿式清洗法为主流。 1. 湿式清洗技术 湿式清洗技术，是...
前言：半导体表面材料清洗为什么先用一号液半导体材料表面的污染物主要有二类：有机污染物和金属离子污染。一号液主要是清除有机污染物如油脂等的，二号液则...
前言：国内做硅的湿法腐蚀以及清洗设备的厂商哪家比较好？苏州艾力克物资拥有全国75% 以上市场占有率，庞大的客户群实际验证，每年将近30%的出口量；是韩国三...
前言：半导体 清洗你试一下乳化剂之王:全能乳化剂 --------全球最强的除油乳化剂，真正的乳化剂之王。 一、除油能力全球第一，是全球最先进的除油剂 二、乳化...
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